テクノロジー NEDO： キラー欠陥を従来の10分の1に低減した第3世代酸化ガリウム100mmエピウエハーの開発に成功【写真・2枚目】 図1 第3世代β-Ga2O3100mmエピウエハーを用いて試作したショットキーバリアダイオード 最大のチップサイズは10mm×10mm この画像の記事を読む
