NEDO： キラー欠陥を従来の10分の1に低減した第3世代酸化ガリウム100mmエピウエハーの開発に成功 | 1枚目の写真（全3枚）

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「NEDO： キラー欠陥を従来の10分の1に低減した第3世代酸化ガリウム100mmエピウエハーの開発に成功」の3枚目の画像 図1　第3世代β-Ga2O3100mmエピウエハーを用いて試作したショットキーバリアダイオード 最大のチップサイズは10mm×10mm
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